概覽
設計意圖以遮罩與圖案形式進入流程。ASML 掃描器使用 EUV 或 DUV 光源曝光晶圓，線上感測器測量焦距、關鍵尺寸與對位。數據驅動控制策略與計算光刻模型，調整曝光與製程參數，降低變異並在量產與爬坡期間保護良率。
整合光刻能力
ASML 服務先進邏輯、記憶體、類比與混合訊號線路的晶片製造商、晶圓廠與 IDM，以及將技術轉移至製造的研發團隊。理想用戶包括光刻工程師、製程整合團隊、良率與計量專家、設備與設施工程師，以及負責節點爬坡與成本的製造主管。此平台適合需要跨層可預測對位、長期穩定關鍵尺寸、快速缺陷學習與以實證測量及校準模型驅動持續改進的組織。
- 提供用於大量奈米級晶片圖案化的 EUV 與 DUV 掃描器。
- 結合計量與檢測以監控對位、焦距與缺陷。
- 應用計算光刻優化設計與製程中的圖案。
- 整合精密機電與光學，實現穩定且高產能的曝光操作。
- 於全球六十多個據點提供客戶支援、訓練與服務。
主要優勢
ASML 使用者
合作通常從節點或產品目標、產能目標與製程限制開始。ASML 應用與客戶支援團隊規劃配置、設施與爬坡計畫，協調安裝、驗證與與晶圓廠控制系統整合。訓練中心與文件加速操作員準備與維護程序。線上計量配方與檢測策略與曝光設定同步建立，計算光刻工作流程逐步擴展製程窗口。持續的現場服務、備品與性能監控維持可用性與產能，並透過共同工程與定期檢討，隨設計與製程條件演進調整系統。
當光學、機電、計量與計算作為一個緊密整合的系統運作時，奈米級的精度得以實現。
入門指南
ASML 的差異化在於整合光刻——曝光、計量、檢測與計算方法的緊密結合，可靠地將設計意圖轉化為可製造圖案。此方法擴大製程窗口、加速學習並維持良率提升，並由全球服務、訓練與與領先晶圓廠跨世代技術合作支持。
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ASML
ASML 設計並製造先進光刻系統與支援軟體，用於半導體製造。憑藉光學、雷射、精密機電、感測器與控制的深厚專業，提供 EUV 與 DUV 解決方案、計量、檢測與計算光刻，遍及全球研發、製造與客戶支援據點。
ASML 是全球半導體產業的供應商，提供 EUV 和 DUV 光刻系統、計量與檢測，以及計算光刻技術，共同實現奈米級晶片製造。其平台利用精確控制的光源、先進光學與高剛性機電系統，以高產能和嚴密對位將遮罩圖案轉移至晶圓。整合計量技術即時捕捉焦距、關鍵尺寸與對位數據，實現閉環校正，穩定從研發到量產的製程。計算光刻模擬整個圖案堆疊，協同優化遮罩、圖案與曝光參數，提升製程窗口與良率。憑藉全球工廠、研發中心與客戶支援網絡，ASML 與領先晶圓廠緊密合作，有效推動新節點量產。成果是縮短學習週期、可預測的性能與可擴展的先進邏輯與記憶體製造。
www.asml.com/
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